多功能模式原子力显微镜

型号： MultiMode NanoscopⅢa
生产厂家：美国Digital Instrument公司
工作模式：
1、接触模式：表面形貌成像,正向力成像侧向力成像,粘滞力成像,局部粘度弹性成
像,扩散电阻成像,I/V特性测量,机械刻蚀、电阻冲刻蚀。
2、非接触模式:表面形貌成像、相位成像，扫描电容成像，表面电位分布成像，
电场力成像，磁场力成像。
3、扫描隧道显微成像：表面形貌成像，电子态密度成像，势垒高度成像，电脉冲
刻蚀。

主要性能指标：
1、样品尺寸： 15′15毫米,厚度6毫米
2、最大水平扫描范围： 125mm×125mm
3、最大垂直扫描范围： 5mm
4、最高水平分辨率： 0.1nm
5、最高Z方向分辨率： 0.01nm
6、X,Y方向D/A: 16 bits
7、数据采集通道数： 4
8、隧道电流测量范围： 30pA-50nA(标准STM探头)，
3pA-5nA(低电流STM探头）
9、最大扫描点数： 1000′1000
10、放大倍数： 100万倍
11、彩色CCD摄象机: >470线，43x-470x
12、彩色监视器: >500线,14"

主要应用：
纳米材料表面形貌、纳米薄膜粗糙度研究，纳米材料粒径测量、纳米复合材料相组成研究及复合材料界面研究纳米刻蚀、加工与纳米器件研究实时生物表面活性、生物结构与功能的关系研究，金属、聚合物、半导体、生物、胶体、配位化学物、陶瓷、无机化合物、有机物等表面原子、分子形貌及电子结构研究材料表面与薄膜纳米硬度测定材料表面与薄膜微载荷压痕、划痕研究材料摩擦力、粘弹性、弹性等力学性能研究。